Mesin pelapis vakum penguapan resistensi

Mesin pelapis vakum penguapan resistansi adalah peralatan Deposisi Uap Fisik (PVD) klasik.

Ini menggunakan arus listrik untuk melewati wadah atau perahu yang terbuat dari logam titik melingkar tinggi (seperti tungsten, molibdenum, dan tantalum) untuk menghasilkan panas joule untuk memanaskan dan menguap bahan pelapis (biasanya logam atau paduan tertentu) yang ditempatkan di dalamnya, seperti menguapkan logam dalam lingkungan yang lezat dan seperti itu, dan kemudian membumbui di dalam permukaan. film tipis.

Ketika bahan penguapan seperti kawat aluminium dipasang pada bahan resistensi tinggi, uap bahan penguapan langsung diuapkan dan dimigrasi ke permukaan substrat di bawah aksi panas joule yang dihasilkan oleh arus listrik pada suhu tinggi, dan diendapkan ke dalam film.

Pelepasan ion luas, efek ionisasi tinggi, peningkatan kekuatan ikatan, adhesi yang kuat.

Distribusi ion seragam, yang sangat meningkatkan stabilitas dan keseragaman lapisan film.

Efek ionisasi yang baik, mudah untuk melapisi plastik, resin, akrilik, dan produk lainnya.

Berikan permainan penuh untuk efek ionisasi, jangan menyemprotkan primer pada produk plastik, secara langsung melapisi produk plastik.

Ini cocok untuk pelapisan aluminium, nikel, kromium, timah, indium dan film logam lainnya dan film logam transparan di permukaan cangkir, penutup, kerajinan tangan, dekorasi, casing ponsel, mainan dan produk lainnya yang terbuat dari plastik, resin, kaca, keramik dan bahan lainnya, sehingga permukaan bagian yang berlapis memiliki bagian -bagian yang berlapis memiliki metallic, metallic, red red, red, merah, permukaan yang berlapis memiliki bagian -bagian yang berlapis memiliki bagian metallik, metallik, metall, red red gelas atau purpple, permukaan purpple, Sure of the Plastik, Plastik, Glass, Sure Plastik, Plastik.

Prinsipnya relatif sederhana dan mudah dimengerti.

Laju deposisi cepat dan efisiensi produksi yang tinggi (terutama untuk area permukaan yang besar).

Berbagai macam bahan yang disimpan.

Lapisan film memiliki kemurnian tinggi dan kepadatan yang baik.

Parameter proses (tingkat vakum, laju penguapan, suhu substrat) dapat dengan mudah dan terkontrol secara independen.

Resistance Evaporation Vacuum Coating Machine adalah peralatan yang ideal untuk batch sedang dan besar dari produksi pelapisan berkualitas tinggi.