Peralatan Deposisi Vakum Lapisan Sputtering Magnetron

Prinsip inti dari peralatan deposisi vakum adalah menguapkan atau mengionisasi sumber material dalam lingkungan vakum, dan kemudian membiarkan atom, molekul, atau ion yang dihasilkan mengendap pada permukaan substrat target untuk membentuk satu atau lebih film tipis.

Di dalam ruang-yang tertutup vakum tinggi, medan magnet membatasi elektron untuk mengionisasi gas argon, ion argon yang dihasilkan membombardir target logam atau oksida, menyebabkan atom target tergagap dan disimpan ke permukaan benda kerja yang dipasang pada rak berputar ruang, sehingga membentuk film tipis berskala nano yang padat. Sistem ini mendukung pasokan listrik sputtering DC, MF, dan RF serta mengakomodasi target konduktif dan isolasi, a konfigurasi multi-target memungkinkan sputtering bersama untuk pembuatan film komposit-lapisan tunggal dan multilapis.

Fitur Peralatan

Kualitas lapisannya stabil dan seragam, dengan daya rekat yang kuat
Meja putar planet menggerakkan benda kerja untuk berputar di seluruh ruangan, memastikan ketebalan film yang konsisten di seluruh batch dan mencegah pengelupasan atau pengelupasan. Pelapisnya memiliki kemurnian tinggi, dan sistem ini dapat menghasilkan film oksida logam, paduan, dan dielektrik.

Mendukung pelapisan{0}}suhu rendah dan menawarkan kompatibilitas media yang luas
Dilengkapi dengan-sumber bantuan ion-suhu rendah sebagai standar, memungkinkan pelapisan-suhu ruangan dengan kenaikan suhu benda kerja minimal, sehingga mencegah deformasi yang disebabkan oleh panas tinggi.

Kemampuan proses yang fleksibel, sputtering multi-target
Ruang tersebut dapat dikonfigurasi dengan beberapa target magnetron, memungkinkan pemuatan material target yang berbeda secara bersamaan.

Kontrol loop tertutup-yang sepenuhnya otomatis melalui PLC memastikan kemudahan pengoperasian

Evakuasi vakum, aliran gas argon, daya sputtering, kecepatan putaran meja putar, dan parameter sumber ion semuanya dikontrol secara otomatis. Sistem ini dilengkapi HMI layar sentuh dan memungkinkan pengaturan awal beberapa resep pelapisan.

Ruang vakum, mendukung-penyesuaian non-standar

Perawatan sederhana, sistem vakum stabil

Keran kamar mandi, pancuran, kotak/tali jam tangan, bingkai kacamata, peralatan makan, kotak ponsel, kotak buku catatan, menyiapkan berbagai film dekoratif berwarna, film anti-sidik jari, dan film pelindung-tahan korosi.

Kepadatan lapisan tinggi dan porositas sangat rendah

Atom yang diendapkan melalui magnetron sputtering memiliki energi tinggi, memungkinkan mobilitas permukaan yang kuat dan pengepakan yang rapat

Hampir bebas lubang jarum-dengan porositas minimal

Ketahanan terhadap korosi dan oksidasi jauh lebih unggul dibandingkan pelapis-evaporasi vakum

Kinerja uji semprotan garam yang sangat baik; cocok untuk aplikasi anti-korosi dan dekoratif pada perlengkapan kamar mandi, perangkat keras, dan komponen luar ruangan