Prinsip operasional:
Di dalam ruang vakum, medan magnet digunakan untuk membatasi pelepasan cahaya, menyebabkan ion argon membombardir material target dengan kecepatan tinggi, atom target tergagap dan disimpan ke permukaan benda kerja untuk membentuk film tipis padat-sebuah proses yang diklasifikasikan sebagai Deposisi Uap Fisik (PVD).
Fitur Peralatan
Kompatibel dengan berbagai jenis target sputtering
Mendukung target sputtering magnetron DC, MF, dan RF, mengakomodasi target logam dan keramik oksida, memungkinkan pengendapan film dielektrik logam dan isolasi.
Revolusi Substrat dan Mekanisme Rotasi
Rak benda kerja menggunakan sistem rotasi planet, memungkinkan benda kerja di dalam tungku berputar dan berputar secara bersamaan, hal ini memastikan keseragaman ketebalan film yang sangat baik di seluruh beban tungku dan meminimalkan variasi warna.
Sistem-Pra-Perawatan Ion Suhu Rendah
Dilengkapi dengan-sumber pembersih ion bawaan, sistem ini membombardir permukaan benda kerja dengan plasma sebelum pelapisan untuk menghilangkan kontaminan minyak dan lapisan oksida. Hal ini memungkinkan deposisi film-bersuhu rendah dengan pemanasan substrat minimal, sehingga cocok untuk memproses plastik yang peka terhadap panas-seperti ABS dan PC tanpa menyebabkan pembakaran atau perubahan bentuk.
Konfigurasi unit vakum independen
Kombinasi pompa turbomolekuler, pompa Roots, dan pompa baling-baling putar, memastikan kurva pemompaan stabil.
Sistem kontrol industri PLC yang sepenuhnya otomatis
Otomatisasi proses, resep proses dapat disimpan dan dipanggil kembali dengan satu klik.
Kontrol Aliran Gas Presisi
Memanfaatkan beberapa Pengontrol Aliran Massa (MFC) untuk secara tepat mengatur gas reaktif seperti argon, oksigen, dan nitrogen, sehingga cocok untuk deposisi sputtering reaktif pada film komposit oksida dan nitrida.
Perlindungan Interlock Keamanan
Termasuk interlock untuk pintu ruang dan sistem vakum, serta perlindungan terhadap kelebihan beban, kekurangan air, dan kegagalan daya, pematian otomatis saat mendeteksi anomali untuk melindungi sumber target dan sistem vakum.
Aplikasi:
Lapisan Dekoratif
Kotak arloji, perlengkapan kamar mandi, kepala tongkat golf, kerajinan tangan, mainan, reflektor lampu depan otomotif, serta rumah dan kancing ponsel atau peralatan rumah tangga. Mampu menghasilkan lapisan dekoratif emas imitasi, hitam gunmetal, ultra-hitam, dan berwarna, berfungsi sebagai alternatif-ramah lingkungan,-bebas polusi dibandingkan pelapisan listrik berbasis air-tradisional.
Substrat yang Kompatibel: Plastik ABS, kaca, keramik, ubin, dan berbagai logam.
Film Fungsional
Cetakan dan Perkakas: Lapisan pelindung-tahan aus untuk perkakas pemotong dan cetakan/cetakan














Keuntungan
Ketebalan film dapat dikontrol dan diulang.
Ini dapat dengan andal menyimpan film dengan ketebalan yang telah ditentukan, dan lapisan sputtering dapat memperoleh ketebalan film yang seragam pada permukaan yang besar.
Film ini memiliki daya rekat yang kuat pada substrat.
Beberapa atom-yang tergagap berenergi tinggi menghasilkan tingkat injeksi yang berbeda-beda, membentuk lapisan difusi-semu pada substrat tempat atom yang tergagap dan atom substrat menyatu satu sama lain.
Pembuatan film tipis dari bahan khusus.
Film campuran dan film majemuk dapat dibuat dengan menyemprotkan bahan yang berbeda secara bersamaan. Film emas imitasi TiN juga bisa disemprotkan.
Film ini memiliki kemurnian tinggi dan film yang tergagap tidak akan tercampur dengan komponen bahan pemanas wadah.
Dilengkapi dengan-sumber tambahan ion bersuhu rendah, dapat membentuk film dengan pelapisan dingin pada suhu kamar tanpa pemanasan, menghemat energi dan listrik, dan meningkatkan kapasitas produksi.
Spesifikasi:
|
Mesin pelapis sputtering magnetron |
|||||||
|
Model |
CJ-600 |
CJ-800 |
CJ-1000 |
CJ-1200 |
CJ-1400 |
CJ-1500 |
CJ-1600 |
|
Ukuran ruangan |
Φ600×800MM |
Φ800×1000MM |
Φ1000×1200MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1400×1600MM |
Φ1500×1500MM |
Φ1600×1800MM |
|
Unit vakum |
Unit pompa difusi KT400 |
Unit pompa difusi KT500 |
Unit pompa difusi KT800 |
Unit pompa difusi KT630 |
Unit pompa Difusi KT630 ganda |
Unit pompa Difusi KT630 ganda |
Unit pompa Difusi KT630 ganda |
|
Sistem pelapisan |
Catu daya DC atau frekuensi menengah, catu daya khusus ion tambahan pelapis |
||||||
|
Sistem inflasi |
Pengukur aliran massa |
||||||
|
Metode pengendalian |
Manual atau sepenuhnya otomatis |
||||||
|
Kekosongan tertinggi |
5X10-3Pa |
||||||
|
Komentar |
Parameter peralatan di atas hanya untuk referensi, dan dirancang serta disesuaikan sesuai dengan kebutuhan proses aktual pelanggan. |
||||||
Tag populer: mesin pelapis sputtering magnetron, produsen, pemasok, pabrik mesin pelapis sputtering magnetron Cina
